金属/SiOx 界面におけるアモルファス相形成の履歴(No.2)

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金属/SiOx 界面におけるアモルファス相形成へ行く。
- 1 (2015-10-19 (月) 23:58:50)
- 2 (2015-11-26 (木) 00:20:15)
- 3 (2016-05-22 (日) 16:20:35)

電子照射-電子励起による相転移

金属/シリコン酸化物界面におけるアモルファス形成†

REFERENCES

T. Nagase, R. Yamashita, A. Yabuuchi, J.-G. Lee, AIP Advances, 5, 117145 1-7 (2015), "An amorphous phase formation at palladium / silicon oxide (Pd/SiOx) interface through electron irradiation - electronic excitation process", http://dx.doi.org/10.1063/1.4936629