金属/SiOx 界面におけるシリサイド形成の履歴差分(No.1)

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金属/SiOx 界面におけるシリサイド形成へ行く。
- 1 (2015-10-19 (月) 22:06:58)
- 2 (2015-10-19 (月) 23:57:56)
- 3 (2015-11-26 (木) 00:18:38)
- 4 (2016-12-05 (月) 19:10:27)
- 5 (2018-05-10 (木) 09:26:39)
- 6 (2020-12-18 (金) 17:49:00)

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|[[電子照射-電子励起による相転移]]|
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REFERENCES
[1] J. -G. Lee, %%%T. Nagase%%%, H. Yasuda, H. Mori, Journal of Applied Physics, 117, 194307 1-8 (2015)., "Synthesis of metal silicide at metal/silicon oxide interface by electronic excitation", http://dx.doi.org/10.1063/1.4921429